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晶圓級封裝

全面解析扇出型晶圓級封裝(FOWLP)技術(shù)原理與流程

扇出型晶圓級封裝(FOWLP)技術(shù)概述  在集成電路封裝領(lǐng)域,常規(guī) IC 封裝需要經(jīng)歷將晶圓與 IC 封裝基板焊接,再把 IC 基板焊接至普通 PCB 的復(fù)雜流程。而扇出型晶圓級封裝(FOWLP)技術(shù)則基于 IC 晶圓,運(yùn)用 PCB 制...

分類:基礎(chǔ)電子 時間:2025-05-15 閱讀:301 關(guān)鍵詞:晶圓級封裝

VMMK-3213 晶圓級封裝檢測器

VMMK-3213 是一款帶有集成溫度補(bǔ)償檢測器的寬帶定向耦合器,專為 6 至 18 GHz 應(yīng)用而設(shè)計。該檢測器提供與射頻功率輸入成比例的直流輸出,提供了一種測量放大器功率輸出的...

分類:電子測量 時間:2023-10-13 閱讀:456 關(guān)鍵詞:檢測器

晶圓級封裝檢測器

Avago Technologies 的 VMMK-3413 是一款帶有集成溫度補(bǔ)償檢測器的寬帶定向耦合器,專為 25 至 45 GHz 應(yīng)用而開發(fā)。它是一個三端器件,具有“直通”50 Ω 傳輸線,直接連接...

分類:電子測量 時間:2023-09-01 閱讀:285 關(guān)鍵詞:晶圓

用于扇出型晶圓級封裝的銅電沉積

隨著集成電路設(shè)計師將更復(fù)雜的功能嵌入更狹小的空間,異構(gòu)集成包括器件的3D堆疊已成為混合與連接各種功能技術(shù)的一種更為實用且經(jīng)濟(jì)的方式。作為異構(gòu)集成平臺之一,高密度扇出型晶圓級封裝技術(shù)正獲得越來越多的認(rèn)可。...

分類:其它 時間:2020-07-13 閱讀:649 關(guān)鍵詞:用于扇出型晶圓級封裝的銅電沉積晶圓

采用新一代晶圓級封裝的固態(tài)圖像傳感器設(shè)計

固態(tài)圖像傳感器要求在環(huán)境大氣中得到有效防護(hù)。代圖像傳感器安裝在帶玻璃蓋的標(biāo)準(zhǔn)半導(dǎo)體封裝中。這種技術(shù)能使裸片得到很好的密封和異常堅固的保護(hù),但體積比較龐大,制造成本也比較高。引入晶圓級封裝后,制造工藝成...

分類:傳感技術(shù) 時間:2009-06-09 閱讀:2800 關(guān)鍵詞:采用新一代晶圓級封裝的固態(tài)圖像傳感器設(shè)計傳感器

新一代晶圓級封裝技術(shù)解決圖像傳感器面臨的各種挑戰(zhàn)

固態(tài)圖像傳感器要求在環(huán)境大氣中得到有效防護(hù)。第一代圖像傳感器安裝在帶玻璃蓋的標(biāo)準(zhǔn)半導(dǎo)體封裝中。這種技術(shù)能使裸片得到很好的密封和異常堅固的保護(hù),但體積比較龐大,制造成本也比較高。引入晶圓級封裝后,制造工...

分類:傳感技術(shù) 時間:2008-08-21 閱讀:1809 關(guān)鍵詞:新一代晶圓級封裝技術(shù)解決圖像傳感器面臨的各種挑戰(zhàn)20001500

英飛凌推出晶圓級封裝BAW濾波器NWX2015CR

英飛凌在MTT國際微波研討會上推出了適用于UMTS/W-CDMA手機(jī)的BAW(體聲波)濾波器產(chǎn)品家族的最新成員:NWX2015CR/T。英飛凌推出的全新雙工濾波器--NWX2015CR和NWX2015CT是全球首款采用WLP(晶圓級封裝)工藝生產(chǎn)的

分類:單片機(jī)與DSP 時間:2007-12-04 閱讀:1912 關(guān)鍵詞:英飛凌推出晶圓級封裝BAW濾波器NWX2015CR

英飛凌首推晶圓級封裝BAW濾波器,降低3G手機(jī)成本..

英飛凌科技(InfineonTechnologies)日前推出了適用于UMTS/W-CDMA手機(jī)的雙工濾波器NWX2015CR和NWX2015CT,據(jù)稱是全球首款采用WLP(晶圓級封裝)工藝生產(chǎn)的BAW(體聲波)濾波器,它們可降低3G手機(jī)的生產(chǎn)成本

分類:單片機(jī)與DSP 時間:2007-11-22 閱讀:1553 關(guān)鍵詞:英飛凌首推晶圓級封裝BAW濾波器,降低3G手機(jī)成本..

滿足晶圓級封裝微型化的曝光設(shè)備

在過去的幾年中人們已經(jīng)有幾次預(yù)言由于受到物理限制單個晶片的尺寸不可能再縮小,但實際上芯片的尺寸還一直在縮小中。國際半導(dǎo)體技術(shù)藍(lán)圖(ITRS)預(yù)言在未來的10年中DRAM的密度將達(dá)到每芯片10TM(G級集成)。為了提高器...

分類:其它 時間:2007-04-29 閱讀:245 關(guān)鍵詞:滿足晶圓級封裝微型化的曝光設(shè)備2005

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