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當(dāng)前位置:維庫(kù)電子市場(chǎng)網(wǎng)>IC>stk800 更新時(shí)間:2025-09-01 03:22:11

stk800供應(yīng)商優(yōu)質(zhì)現(xiàn)貨

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  • STK800

  • 3000

  • STMicroelectronics

  • PolarPak/19+/20+

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stk800價(jià)格行情

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歷史最低報(bào)價(jià):¥0.0000 歷史最高報(bào)價(jià):¥0.0000 歷史平均報(bào)價(jià):¥0.0000

stk800中文資料

  • 意法發(fā)布新款功率器件采用PolarPAK技術(shù)提升功率密度

    意法半導(dǎo)體(st)發(fā)布首款以頂部金屬polarpak封裝的功率器件:stk800、stk850,增強(qiáng)了熱量性能、提升了大電流電源使用組件的功率密度。新器件分別為20a/30a功率mosfet,以標(biāo)準(zhǔn)so-8封裝,僅需要5mm×6mm板空間,因頂部與底部的熱耗散通道其高度僅為0.8mm。 st與siliconix就使用polarpak技術(shù)達(dá)成協(xié)議。新封裝的導(dǎo)線架與塑料密封類(lèi)似于多數(shù)標(biāo)準(zhǔn)功率mosfet封裝,確保了良好的裸片保護(hù)與制造的易處理。與標(biāo)準(zhǔn)so-8相比, polarpak的熱耗散非常有效,它能在相同的占位面積內(nèi)處理兩倍電流。 新器件以st所有的最新stripfet技術(shù)制造,該技術(shù)基于提升的單元密度與更小的單元特性,占用了更小的芯片空間,同時(shí)實(shí)現(xiàn)極低的片上阻抗與損耗。10v時(shí),20a stk800典型的rds(on) 值為6.0mohm,30a stk850的rds(on)值為2.9mohm。該封裝通過(guò)提供超低的結(jié)到外殼熱量阻抗與更低的結(jié)溫確保兩個(gè)mosfet的低片上阻抗特性。 低電容與總門(mén)電荷數(shù),使stk800成為非絕緣dc/dc壓降轉(zhuǎn)換器中控制fet的

  • ST 20A和30A功率場(chǎng)效應(yīng)MOS晶體管

    意法半導(dǎo)體(stmicroelectronics) 今天推出了該公司第一批采用頂置金屬片的polarpak® 封裝的功率ic,這種封裝有助于大電流電源組件實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的熱性能和更高的功率密度。新的stk800和stk850分別是20a和30a的功率場(chǎng)效應(yīng)mos晶體管,占板面積與so-8封裝相同,僅為5mm x 6mm。因?yàn)轫敳亢偷撞慷加猩嵬ǖ?,所以封裝的高度更低,只有0.8mm高。 st和siliconix公司于2005年3月簽訂一項(xiàng)使用polarpak®技術(shù)的許可協(xié)議。新封裝的引線框架和塑料封裝與大多數(shù)標(biāo)準(zhǔn)功率場(chǎng)效應(yīng)mos晶體管使用的封裝相似,具有優(yōu)良的裸片保護(hù)功能,在制造過(guò)程中拾放芯片十分容易。然而與標(biāo)準(zhǔn)的so-8封裝相比,polarpak的散熱效率更加出色,在相同的占板面積下,比so-8封裝處理的電流高一倍。. 新器件采用st最新優(yōu)化的stripfet™制造技術(shù),在更小的芯片面積上取得了更低的通態(tài)電阻和功耗,這項(xiàng)技術(shù)是以大幅度提高單元密度和降低單元線寬為基礎(chǔ)的。在10v時(shí),20a stk800的典型rds(on) 是6.0毫歐,30a stk85

  • ST第一批采用SO8尺寸的STripFET封裝的IC

    意法半導(dǎo)體推出了該公司第一批采用頂置金屬片的polarpak 封裝的功率ic,這種封裝有助于大電流電源組件實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的熱性能和更高的功率密度。新的stk800和stk850分別是20a和30a的功率場(chǎng)效應(yīng)mos晶體管,占板面積與so-8封裝相同,僅為5mm x 6mm。因?yàn)轫敳亢偷撞慷加猩嵬ǖ?,所以封裝的高度更低,只有0.8mm高。 新封裝的引線框架和塑料封裝與大多數(shù)標(biāo)準(zhǔn)功率場(chǎng)效應(yīng)mos晶體管使用的封裝相似,具有優(yōu)良的裸片保護(hù)功能,在制造過(guò)程中拾放芯片十分容易。然而與標(biāo)準(zhǔn)的so-8封裝相比,polarpak的散熱效率更加出色,在相同的占板面積下,比so-8封裝處理的電流高一倍。 新器件采用st最新優(yōu)化的stripfet制造技術(shù),在更小的芯片面積上取得了更低的通態(tài)電阻和功耗,這項(xiàng)技術(shù)是以大幅度提高單元密度和降低單元線寬為基礎(chǔ)的。在10v時(shí),20a stk800的典型rds(on) 是6.0毫歐,30a stk850是2.9毫歐。結(jié)到外殼熱阻極低和結(jié)溫較低的特性是降低兩款mosfet的通態(tài)電阻的主要因素。 電容低和柵電荷總量低使stk800成為非隔離型直流-直流降壓轉(zhuǎn)換

  • STK800

    電流參數(shù):ID=20A/IDM=80A電壓參數(shù):UDS=30V/UGE=±16V功 率:Ptot=5.2W其他參數(shù):10V/0.006Ω,4.5V/0.0075Ω,trr=32ns極 性:N

  • 意法發(fā)布20A/30A功率MOSFET,采用PolarPAK技術(shù)

    意法半導(dǎo)體(st)日前發(fā)布首款以頂部金屬polarpak封裝的功率器件:stk800、stk850,增強(qiáng)了熱量性能、提升了大電流電源使用組件的功率密度。新器件分別為20a/30a功率mosfet,以標(biāo)準(zhǔn)so-8封裝,僅需要5mm×6mm板空間,因頂部與底部的熱耗散通道其高度僅為0.8mm。 2005年3月,st與siliconix就使用polarpak技術(shù)達(dá)成協(xié)議。新封裝的導(dǎo)線架與塑料密封類(lèi)似于多數(shù)標(biāo)準(zhǔn)功率mosfet封裝,確保了良好的裸片保護(hù)與制造的易處理。與標(biāo)準(zhǔn)so-8相比, polarpak 的熱耗散非常有效,它能在相同的占位面積內(nèi)處理兩倍電流。 新器件以st所有的最新stripfet技術(shù)制造,該技術(shù)基于提升的單元密度與更小的單元特性,占用了更小的芯片空間,同時(shí)實(shí)現(xiàn)極低的片上阻抗與損耗。10v時(shí),20a stk800典型的rds(on) 值為6.0mohm,30a stk850的rds(on)值為2.9mohm。該封裝通過(guò)提供超低的結(jié)到外殼熱量阻抗與更低的結(jié)溫確保兩個(gè)mosfet的低片上阻抗特性。 低電容與總門(mén)電荷數(shù),使stk800成為非絕緣dc/dc壓降轉(zhuǎn)

stk800替代型號(hào)

STK7406 STK7359 STK7358 STK7309 STK7308 STK702-015 STK6732 STK672-080 STK6327A STK6153

STK830 STK850 ST-L1102 STL150N3LLH6 STL3055 STL50NH3LL STL8NH3LL STLC1502 STLC3055 STLC30R80

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